Przemysłowa tomografia komputerowa (CT) to technologia pomiarowa umożliwiająca kompletną wizualizację 3D Twojej części obejmującą wewnętrzne struktury i wady bez ingerencji w materiał. Proces pomiaru części z wykorzystaniem promieniowania rentgenowskiego gwarantuje wysoką dokładność oraz możliwość uzyskania kompletnych danych pozwalających na analizę każdego zakamarka badanego detalu.

Tomografy metrologiczne ZEISS METROTOM

Tomografy firmy ZEISS serii METROTOM są systemami metrologicznymi służącymi m.in. do pomiarów trudno dostępnych, zasłoniętych geometrii. Są to cechy niemożliwe do pomiaru konkurencyjnymi technologiami. CT eliminuje potrzebę kosztownego i czasochłonnego cięcia części które na dodatek wpływa na wyniki pomiarów.

Analiza wad materiałowych

Poza wysoce precyzyjnym nieniszczący pomiarem geometrii zewnętrznej i wewnętrznej technologia tomografii komputerowej CT pozwala na analizę wad takich jak pęcherze, deformacje, pory, pęknięcia itp. przy użyciu tego samego zestawu danych.

Pomiar wielu części na raz

Dzięki możliwości prześwietlania wielu części na raz jednostkowy czas pomiaru detali zmniejsza się wielokrotnie w porównaniu z innymi technologiami pomiarowymi. CT umożliwia zarówno pomiar, jak i analizę statystyczną detali ze wszystkich gniazd formy w tym samym czasie, który jest potrzebny do zmierzenia pojedynczej części, a cały proces trwa zaledwie kilkanaście minut. Dodatkowo wszystkie działania mogą zostać zautomatyzowane gwarantując błyskawiczne uzyskanie raportów z dokładnych i powtarzalnych pomiarów.

Pomiar CT w bardzo wysokiej rozdzielczości

Systemy tomografii są uniwersalnym rozwiązaniem pozwalającym na pomiary jednego detalu w bardzo wysokiej rozdzielczości i niewielkiej objętości pomiarowej lub wielu detali na raz. Przy pomiarach więcej niż jednej części jednocześnie pole pomiarowe zostaje rozszerzone przy zachowaniu bardzo wysokiej rozdzielczości.

Metrologiczne tomografy komputerowe ZEISS METROTOM zgodne z VDI/VDE 2630

Metrologiczne systemy tomografii komputerowej firmy ZEISS posiadają specyfikację dokładności zgodną z VDI/VDE 2630. Wszystkie parametry niepewności pomiarowych MPE takie jak E, SD, PS, PF są zdefiniowane i weryfikowane w procesie kalibracji przeprowadzanej okresowo na danym tomografie. Wieloletnie doświadczenie inżynierów w zakresie projektowania tych systemów zapewnia gwarancję pewnych wyników. Ponadto testy zgodności systemu są w pełni transparentne i można je poddać dodatkowej weryfikacji.

System pozwalający na więcej niż tylko jeden pomiar

Do głównych aplikacji w których jest wykorzystywana tomografia komputerowa należy wykrywanie wad materiałowych takich jak porowatości, czy wtrącenia innych materiałów. Technologia CT umożliwia ich pomiar oraz analizę.

Analiza złożeń

Zaletą posiadania całkowitej geometrii detalu jest możliwość analizy złożeń. Kiedy wewnątrz badanego obiektu znajduje się kilka komponentów o różnych gęstościach można je odseparować, analizować osobo lub kontrolować pasowanie między nimi.

Porównanie detalu z modelem CAD

Porównanie detalu z modelem CAD lub inną referencją nie stanowi wyzwania. Dzięki kolorystycznym mapom odchyłek w łatwy sposób można znaleźć wszystkie niezgodności w aktualnych detalach.

Przekroje przez element

Przekroje przez element umożliwiają nie tylko wykrycie wad wewnętrznych ale również obejrzenie struktury materiału wewnątrz. Połączenie danych siatki mesh z danymi wolumetrycznymi pozwala na zdobycie pełnych informacji o mierzonym detalu.

Analiza detali wykonanych z kilku materiałów

Systemy  tomografii umożliwią wskazanie materiałów o różnych gęstościach. Wydzielone materiały można wskazywać kolorystycznie.

PREZENTACJA SYSTEMU

Sprawdź czy metrologiczny tomograf komputerowy ZEISS METROTOM spełnia oczekiwania i zobacz jak łatwo pracuje się w jednym środowisku GOM Suite. Otrzymaj wysokiej jakości dane pomiarowe i sprawdź je w darmowym oprogramowaniu GOM. Prześlij do nas części, a za darmo wykonamy próbny pomiar lub umów się na prezentację.

6 kwietnia 2022 rok to data, która na stałe zagości na kartach historii metrologii w Polsce. W tym właśnie dniu nastąpiło uroczyste podpisanie deklaracji o współpracy w celu utworzenia Klastra Metrologicznego. Wśród sygnatariuszy porozumienia znalazły się zarówno instytucje państwowe – Główny Urząd Miar, uczelnie techniczne z Politechniką Warszawską na czele oraz firmy takie jak Lenso

Kongres METROLOGIA – szansa i wyzwanie przyszłości

Kongres powstały z inicjatywy prezesa Spółki Targi Kielce – dr. Andrzeja Mochonia, prezesa Głównego Urzędu Miar – prof. Jacka Semaniaka oraz rektora Politechniki Świętokrzyskiej – Zbigniewa Koruby, zgromadził wokół siebie ogromne zainteresowanie wśród potentatów branży metrologicznej. Do deklaracji przystąpiło już ponad 30 partnerów, a jak podkreśla sam GUM, przedsięwzięcie wciąż otwarte jest dla kolejnych chętnych podjęcia współpracy instytucji oraz firm. Kongres zorganizowany w ramach targów Przemysłowej Techniki Pomiarowej CONTROL-STOM przewidywał także czas na wykłady, podkreślające ogromny wpływ metrologii 3D na przyszłą gospodarkę naszego państwa.

Lenso jednym z sygnatariuszy polskiego Klastra Metrologicznego

Podczas tego niezwykle ważnego dla branży metrologicznej w Polsce wydarzenia, Lenso reprezentował prezes spółki – Marek Radke.

Mamy nadzieję na pogłębienie współpracy z innymi członkami Klastra. Wspólnie z Głównym Urzędem Miar zależy nam także na wypracowaniu nowych standardów do integracji optycznych skanerów 3D w środowisku metrologicznym – tak zapytany o kilka słów na temat dołączenia do Klastra, wypowiedział się Marek Radke – Prezes Zarządu Lenso.

Metrologia 3D już dziś wspiera procesy produkcyjne, jak i kontrolę jakości w licznych gałęziach polskiego przemysłu, a formacja Klastra umożliwi jej dalszy oraz szybszy rozwój.

Główne założenia deklaracji

Celem przewodnim kolektywu jest kreowanie optymalnych warunków rozwoju firm z branży metrologicznej. Powstanie Klastra połączone jest także z budową Świętokrzyskiego Kampusu Laboratoryjnego, który stanowić będzie niezwykle ważne wsparcie w zakresie badań i rozwoju dla wszystkich członków Klastra. Kieleckie zaplecze laboratoryjne umożliwia połączenie nauki, biznesu i przemysłu, które działając w symbiozie, przyczynią się do znacznego rozwoju gospodarki.

Klaster Metrologiczny, który dzisiaj powstał jest w moim odczuciu kontynuacją programu “Polska metrologia”(…). Nas bardzo cieszy fakt, iż powstają programy, otwierające GUM na środowisko naukowe. W tej chwili do tego grona dołączają również firmy, dlatego wydaje mi się, że wspólnie jesteśmy w stanie wiele zrobić dla polskiej metrologii – tak o Klastrze wypowiada się prof. Paweł Woźniak z Politechniki Warszawskiej.

Cieszymy się, iż Lenso jako firma dostarczająca rozwiązania metrologiczne dla nauki i przemysłu może brać udział w tak innowacyjnym projekcie, którego wszystkich członków łączy jedna, wspólna misja – rozwój polskiej metrologii.